光刻胶：泛半导体产业核心材料，半导体材料皇冠上的明珠。光刻胶又名“光致抗蚀剂”，光刻胶具有光化学敏感性，通过利用光化学反应，并经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上。光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键材料，可应用于 PCB、LCD 与集成电路等下游领域。 光刻胶广泛应用于 IC、面板显示和 PCB 等下游泛半导体领域。光刻胶自 1959 年被发明以来，就成为半导体工业最核心的工艺材料；随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺，成为 PCB 生产的重要材料；二十世纪九十年代，光刻胶又被运用到 LCD 器件的加工制作，对 LCD 面板的大尺寸化、高精细化 、彩色化起到了重要的推动作用。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类。 在 LCD 面板行业：应用于显示面板行业的光刻胶可以按用途再细分为 TFT 用光刻胶、触摸屏用光刻胶和滤光片用光刻胶。（1）TFT 用光刻胶：用于在玻璃基板上制造场效应管（FET）。每一个 TFT 都用来驱动一个子像素下的液晶，因此需要很高的精度。（2）触摸屏用光刻胶：用于在玻璃基板上趁机 ITO，从而制作图形化的触摸电极。（3）滤光片用光刻胶：用于制作彩色滤光片，又分为彩色光刻胶和黑色光刻胶。