微导纳米深耕薄膜沉积设备领域，以 ALD 技术为核心不断实现技术突破。1）初步发展阶段：2015 年公司成立，2017 年研发出光伏领域 ALD 第一代量产机型 KF4000，并陆续与下游龙头企业签订样机试用协议；2）加速发展阶段：2018 年，光伏 ALD 设备 KF6000 开始在下游量产爬坡，公司知名度提升。2019 年 ALD 设备产能突破 10000 片/小时，丰富产品矩阵，半导体领域样机搭建完成；3）战略升级发展阶段：2020 年至今，公司成功研制PEALD+PECVD 机型，高端光伏装备成功获得隆基、爱旭、晶科等多家重要厂商订单，并在通威、尚德等 TOPCon 电池产线上开展应用；半导体领域，公司首套用于 300mm 晶圆的 High-k 栅氧层薄膜沉积的 ALD 设备实现销售，取得国产半导体 ALD 设备在 28nm 集成电路制造关键工艺中的突破。 光伏领域：率先将 ALD 应用于光伏电池生产的薄膜沉积环节，获得客户认可。公司通过持续的技术开发和工艺改良，突破了 ALD 技术原有的产能低、成本高等多项产业化运用瓶颈，大幅提升 ALD 设备单位产能。公司产品包括夸父系列 ALD 系统、夸父系列管式PECVD 系统和祝融系列管式 PEALD 系统，已覆盖通威、隆基、晶澳、阿特斯、天合光能等多家电池片厂商。无锡尚德 2GW TOPCon 电池整线使用公司设备，量产效率高达 25%，ALD 增效作用明显。 半导体领域：国内少数薄膜沉积企业，突破关键工艺。公司近年发力半导体领域，产品包括凤凰系列、麒麟系列原子层沉积镀膜系统和龙系列真空传输系统，获得国内多家知名半导体公司的商业订单。公司研制出用于 300mm（12 英寸）晶圆的 High-k 栅氧层薄膜沉积的 ALD 设备，已实现销售并获得重复订单，取得 28nm 节点中国产 ALD 设备从 0到 1 的突破。